ナノインプリントリソグラフィにおけるSub-20nmでの課題
ナノインプリントリソグラフィにおけるSub-20nmでの課題
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纳米压印光刻的 20 纳米以下挑战
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中川勝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Nakamoto;T. Iizuka;Y. Takeuchi;中川 勝;中川勝
