Fast removal of surface damage layer from single crystal diamond by using chemical etching in molten KCl + KOH solution
Fast removal of surface damage layer from single crystal diamond by using chemical etching in molten KCl + KOH solution
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在熔融 KCl KOH 溶液中化学蚀刻快速去除单晶金刚石表面损伤层
DOI：
10.1016/j.diamond.2015.10.003
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发表时间：
2016
影响因子：
4.1
通讯作者：
Y.Mokuno
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Yao;Y. Ishikawa;Y. Sugawara;H. Yamada;A. Chayahara;Y.Mokuno
