レーザー誘起ドーピング技術を用いた高性能TFETの作製
レーザー誘起ドーピング技術を用いた高性能TFETの作製
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使用激光诱导掺杂技术制造高性能 TFET
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
青木 伸之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
謝 天順;柯 梦南;上野 啓司;青木 伸之
