低バイアスドライエッチングによる多結晶β-Ga2O3の表面粗さ評価
低バイアスドライエッチングによる多結晶β-Ga2O3の表面粗さ評価
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低偏压干法刻蚀评价多晶β-Ga2O3表面粗糙度
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
森山裕貴，西山和輝，宇崎滉太，川棚湧貴，新海聡子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Pham Tien Dat;Atsushi Kanno;Keizo Inagaki;Francois Rottenberg;Jerome Louveaux;Naokatsu Yamamoto;Tetsuya Kawanishi;森山裕貴，西山和輝，宇崎滉太，川棚湧貴，新海聡子
