固体ソースH_2OプラズマによるCaF_2(蛍石)のドライエッチングプロセス
固体ソースH_2OプラズマによるCaF_2(蛍石)のドライエッチングプロセス
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固源H_2O等离子体干法刻蚀CaF_2（萤石）工艺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松谷晃宏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松谷彰宏;大槻秀夫;小山不二夫;松谷彰宏;松谷晃宏
