Y.Horiike,et al.: "High Rate and Highly Selective SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma and its Reaction Kinetics" Proc.of The 2nd Asia-Pacific Conf.on Plasma Science&Technol.6-13 (1994)
Y.Horiike,et al.: "High Rate and Highly Selective SiO_2 Etching Employing Inductively Coupled Plasma and its Reaction Kinetics" Proc.of The 2nd Asia-Pacific Conf.on Plasma Science&Technol.6-13 (1994)
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Y.Horiike等：“感应耦合等离子体的高速率和高选择性SiO_2蚀刻及其反应动力学”第二届亚太等离子体科学会议论文集
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