Boron Selective Thermal Diffusion for the Simplified pMOS FET Fabrication Process
Boron Selective Thermal Diffusion for the Simplified pMOS FET Fabrication Process
复制标题
用于简化 pMOS FET 制造工艺的硼选择性热扩散
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
辻琢人，山本雅史，R.W.Jhonston,堀邊英夫，清水共
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西園寺嶺，長岡史郎;辻琢人，山本雅史，R.W.Jhonston,堀邊英夫，清水共
