T. Kanetsuna et al.: "Surface Adsorption and Reaction of Chlorine on Impurity Doped Si Using an ECR Plasma"197th Meeting of the Electrochemical Society, Toronto, Canada, May 14-18. Abs. No. 294. (2000)
T. Kanetsuna et al.: "Surface Adsorption and Reaction of Chlorine on Impurity Doped Si Using an ECR Plasma"197th Meeting of the Electrochemical Society, Toronto, Canada, May 14-18. Abs. No. 294. (2000)
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T. Kanetsuna 等人：“使用 ECR 等离子体在杂质掺杂硅上进行氯的表面吸附和反应”电化学协会第 197 届会议，加拿大多伦多，5 月 14 日至 18 日。
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