Mirror Surface Processing Polishing for Silicon Wafer with Shell Ceramics

Mirror Surface Processing Polishing for Silicon Wafer with Shell Ceramics
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壳陶瓷硅片镜面加工抛光

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Proceeding of Tohoku Branch Conference of JSPE
影响因子：
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通讯作者：
Hitoshi NAKAMURA
Hitoshi NAKAMURA
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Hitoshi NAKAMURA;Yoshinobu WAKAMATSU;Katsuo SHOUZI;Hitoshi NAKAMURA

文献摘要

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