Microstructure of β-FeSi2 thin films prepared by pulsed laser deposition
Microstructure of β-FeSi2 thin films prepared by pulsed laser deposition
复制标题
脉冲激光沉积制备β-FeSi2薄膜的微观结构
DOI：
10.1016/s0040-6090(00)01750-8
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
K. Nagayama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Yoshitake;Tatsuya Nagamoto;K. Nagayama
脉冲激光沉积法生长β-FeSi_2薄膜
DOI：
--
发表时间：
2001
期刊：
Materials Research Society Symposium Proceedings 648
影响因子：
--
作者：
S.Uekusa;M.Yamamoto;K.Tsuchiya;N.Miura;Shin-ichiro Uekusa et al.
通讯作者：
Shin-ichiro Uekusa et al.