SiでキャップされたGe, SiCナノドット構造の形成と光学特性の評価

SiでキャップされたGe, SiCナノドット構造の形成と光学特性の評価
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Si 覆盖的 Ge、SiC 纳米点结构的形成及光学性能评估

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
安井寛治
安井寛治
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
須藤晴紀;黒田朋義;加藤有行;西山洋;井上泰宣;赤羽正志;高田雅介;安井寛治

文献摘要

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