The mechanism for self-formation of a CeO2 diffusion barrier layer in an aluminide coating at high temperature

The mechanism for self-formation of a CeO2 diffusion barrier layer in an aluminide coating at high temperature
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铝化物涂层高温自形成CeO2扩散阻挡层的机理

DOI:
10.1016/j.surfcoat.2013.03.003
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发表时间:
2013-06
影响因子:
5.4
通讯作者:
X.Peng
X.Peng
中科院分区:
材料科学1区
文献类型:
--
作者:
X.Tan;X.Peng

文献摘要

参考文献

被引文献

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在含CeO 2的电沉积Ni膜上进行部分渗铝,形成CeO 2弥散的δ-Ni 2Al 3。铝化物/Ni-CeO 2涂层体系在1000°C真空退火过程中,在铝化物和Ni之间迅速形成了富CeO 2的扩散阻挡层。基于界面铝化物相组成随时间的演化特征,提出了扩散势垒形成的模型。
A CeO2dispersed δ-Ni2Al3was formed by partially aluminizing an electrodeposited Ni film containing CeO2. The aluminide/Ni–CeO2coating system itself quickly formed a CeO2-rich diffusion barrier between aluminide and Ni during annealing in vacuum at 1000°C. A model for the formation of the diffusion barrier was proposed, based on the characterization of the evolution with time of the phase compositions of the aluminide at the interface.
DOI: 10.4028/www.scientific.net/msf.522-523.1
发表时间: 2006-07
期刊: Materials Science Forum
影响因子: --
作者:
T. Narita;T. Izumi;T. Nishimoto;Y. Shibata;K. Z. Thosin;S. Hayashi
通讯作者: T. Narita;T. Izumi;T. Nishimoto;Y. Shibata;K. Z. Thosin;S. Hayashi
DOI: 10.1023/a:1024617313726
发表时间: 2003-08
影响因子: 2.2
作者:
J. Angenete;K. Stiller
通讯作者: J. Angenete;K. Stiller
DOI: 10.1016/0042-207x(92)90127-i
发表时间: 1992-05
期刊: Vacuum
影响因子: 4
作者:
H. Lou;Fu-hui Wang
通讯作者: H. Lou;Fu-hui Wang
DOI: 10.1016/0001-6160(68)90043-6
发表时间: 1968-09
期刊: Acta Metallurgica
影响因子: --
作者:
M. Ashby;R.M.A Gentamore
通讯作者: M. Ashby;R.M.A Gentamore
DOI: 10.1016/s0921-5093(98)00924-1
发表时间: 1998-12
影响因子: 6.4
作者:
P. Tortorelli;K. Natesan
通讯作者: P. Tortorelli;K. Natesan