熱プラズマジェット照射超急速熱処理によるSi膜中ドーパントの活性化
熱プラズマジェット照射超急速熱処理によるSi膜中ドーパントの活性化
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使用热等离子体射流辐照进行超快速热处理激活硅膜中的掺杂剂
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮崎 誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加久 博隆;東 清一郎;古川 弘和;岡田 竜弥;寄本 拓也;村上 秀樹;宮崎 誠一
