Optimization of modification conditions used in plasma assisted polishing for improving the material removal rate of Gallium nitride
Optimization of modification conditions used in plasma assisted polishing for improving the material removal rate of Gallium nitride
复制标题
等离子体辅助抛光改性条件优化提高氮化镓材料去除率
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yamamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Tao;R. Sun;K. Arima;K. Kawai;K. Yamamura
