表面支援レーザー脱離イオン化質量分析法(SALD-MS)のため金ナノ粒子/高分子交互吸着シリコン基板
表面支援レーザー脱離イオン化質量分析法(SALD-MS)のため金ナノ粒子/高分子交互吸着シリコン基板
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用于表面辅助激光解吸电离质谱 (SALD-MS) 的金纳米颗粒/聚合物交替吸附硅基底
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川崎英也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
渡辺敏行;中広貴;川崎英也
