M.Shikida, K.Nanbara, T.Koizumi, H.Sasaki, et al.: "A model explaining mask-corner undercut phenomena in anisotropic silicon etching : a saddle point in the etching-rate diagram"Sensors and Actuators A. 97-98. 758-763 (2002)
M.Shikida, K.Nanbara, T.Koizumi, H.Sasaki, et al.: "A model explaining mask-corner undercut phenomena in anisotropic silicon etching : a saddle point in the etching-rate diagram"Sensors and Actuators A. 97-98. 758-763 (2002)
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M.Shikida、K.Nanbara、T.Koizumi、H.Sasaki 等人：“解释各向异性硅蚀刻中掩模角底切现象的模型：蚀刻速率图中的鞍点”传感器和执行器 A.97
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