The Structural Controlled SiNWs by Wet and Dry Etching Processes for Photovoltaic Applications
The Structural Controlled SiNWs by Wet and Dry Etching Processes for Photovoltaic Applications
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用于光伏应用的湿法和干法蚀刻工艺的结构控制 SiNW
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
JEVASUWANWipakorn CHENJunyi SUBRAMANIThiyagu PRADELKen Kei Shinotsuka Yoshihisa Hatta 武井俊朗 松村亮 深田直樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Atsushi Miyauchi;Tomohiro Sonobe;and Noriyoshi Sukegawa;Yasushi Kawase and Atsushi Miyauchi;宮内 敦史，武田 朗子;松村亮 王云帆 JEVASUWANWipakorn 深田直樹;河瀬 康志，宮内 敦史;JEVASUWANWipakorn CHENJunyi SUBRAMANIThiyagu PRADELKen Kei Shinotsuka Yoshihisa Hatta 武井俊朗 松村亮 深田直樹
