K.Tamura: "In situ Optical and Electrochemical AFM Monitoring of Cu Electrodeposition Process on Bare and (NH_4)_2S-Treated p-GaAs (001) Surfaces"Journal of the Electrochemical Society. 147(9). 3356-3360 (2000)
K.Tamura: "In situ Optical and Electrochemical AFM Monitoring of Cu Electrodeposition Process on Bare and (NH_4)_2S-Treated p-GaAs (001) Surfaces"Journal of the Electrochemical Society. 147(9). 3356-3360 (2000)
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K.Tamura：“裸露和 (NH_4)_2S 处理的 p-GaAs (001) 表面上 Cu 电沉积过程的原位光学和电化学 AFM 监测”电化学学会杂志。
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