ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 - 第2 章 真空およびプラズマ
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 - 第2 章 真空およびプラズマ
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使用干法工艺进行表面处理和薄膜形成的基础知识 - 第 2 章真空和等离子体
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
井上泰志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
本庄宏行;三橋伸夫;渡辺真季;佐藤栄治;H. Ohta;井上泰志
