Irman IDRIS and Ossamu SUGIURA: "Low Temperature deposition of SiO_2 by PECVD using TICS" Extended Abstract (the 56th Autumn Meeting, 1995) ; the Japan Society of Applied Physics. 733-733 (1995)
Irman IDRIS and Ossamu SUGIURA: "Low Temperature deposition of SiO_2 by PECVD using TICS" Extended Abstract (the 56th Autumn Meeting, 1995) ; the Japan Society of Applied Physics. 733-733 (1995)
复制标题
Irman IDRIS 和 Ossamu SUGIURA：“使用 TICS 通过 PECVD 进行 SiO_2 的低温沉积”扩展摘要（第 56 届秋季会议，1995 年）；
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
