T.Shinada: "Reduction of fluctuation in semiconductor conductivity by one-by-one ion implantation of dopant atoms"Jph. J. Appl. Phys.. Vol.39. (2000)
T.Shinada: "Reduction of fluctuation in semiconductor conductivity by one-by-one ion implantation of dopant atoms"Jph. J. Appl. Phys.. Vol.39. (2000)
复制标题
T.Shinada：“通过掺杂原子的一对一离子注入减少半导体电导率的波动”Jph。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
