Alkylsilane self-assembled monolayer lithography : Effects of proxity gap on photodegradation reaction and patterning resolution
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烷基硅烷自组装单层光刻：邻近间隙对光降解反应和图案分辨率的影响
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
L.Hong et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroyuki Sugimura;Nagahiro Saito;Sun-Hyung Lee;Osamu Takai;H.Sugimura et al.;Y.Wu et al.;N.SAito et al.;L.Hong et al.;L.Hong et al.
