A vibrational infrared thermal detector released by plasmaless Si etching process
A vibrational infrared thermal detector released by plasmaless Si etching process
复制标题
非等离子硅刻蚀工艺推出的振动红外热探测器
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Sasaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. -H. Jeong;S. Kumagai;S. Tajima;T. Hayashi;K. Yamakawa;M. Sasaki
