意図的に導入されたドーパントの空間不均一性によるシリコンナノワイヤのパワーファクター増強効果
意図的に導入されたドーパントの空間不均一性によるシリコンナノワイヤのパワーファクター増強効果
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由于有意引入的掺杂剂的空间不均匀性，硅纳米线的功率因数增强效应
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
F. W. Zhuge et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Nagashima;T. Yanagida;M. Kanai and T. Kawai;Y. He et al.;G. Meng et al.;Y. He et al.;F. W. Zhuge et al.;F. W. Zhuge et al.;長島 一樹;長島 一樹;Annop Klamchuen et al.;F. W. Zhuge et al.;Annop Klamchuen et al.;Yong He et al.;F. W. Zhuge et al.
