ICP-Enhanced Reactivity-Controlled Sputter Deposition of a-IGZO Films for Thin Film Transistor Applications
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用于薄膜晶体管应用的 a-IGZO 薄膜的 ICP 增强反应性控制溅射沉积
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akinori Ebe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuichi Setsuhara;Keitaro Nakata;Kosuke Takenaka;Giichiro Uchida;Akinori Ebe
