顕微フォトリフレクタンス分光法によるシリコン深掘り孔底面および側壁のプラズマ誘起欠陥層解析
顕微フォトリフレクタンス分光法によるシリコン深掘り孔底面および側壁のプラズマ誘起欠陥層解析
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使用显微光反射光谱分析深硅孔底部和侧壁上等离子体引起的缺陷层
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
濱野誉，占部継一郎，江利口浩二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yukari Jessica Tham;Takaaki Hashimoto;and Kaori Karasawa;濱野誉，占部継一郎，江利口浩二
