白谷 正治: "銅薄膜形成用MOCVDプラズマの特性" 電気学会プラズマ研究会資料. 81-90 (1995)
白谷 正治: "銅薄膜形成用MOCVDプラズマの特性" 電気学会プラズマ研究会資料. 81-90 (1995)
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Masaharu Shiratani：“用于铜薄膜形成的 MOCVD 等离子体的特性”IEEJ 等离子体研究组材料 81-90 (1995)。
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