Characterization of pulsed plasma-ion streams emitted from RPI-type devices applied for material engineering
Characterization of pulsed plasma-ion streams emitted from RPI-type devices applied for material engineering
复制标题
用于材料工程的 RPI 型设备发射的脉冲等离子体离子流的表征
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Tsarenko
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Sadowski;J. Baranowski;E. Skladnik;V. N. Borisko;O. Byrka;V. I. Tereshin;A. Tsarenko
