高橋哲,三好隆志,高谷裕浩: "エバネセント光を用いたシリコンウェハ加工表面層微小欠陥検出法の理論的検討"2000年度砥粒加工学会講演会講演論文集. 大阪. 397-398 (2000)

Satoshi Takahashi、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani：“利用倏逝光检测硅晶片加工表面层微小缺陷的方法的理论研究”2000 年磨料加工学会大阪会议记录 (397-398)。