Fabrication and characterization of sub-500nm channel organic field effect transistor using UV nanoimprint lithography with cheap Si-mold
Fabrication and characterization of sub-500nm channel organic field effect transistor using UV nanoimprint lithography with cheap Si-mold
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使用廉价硅模具的 UV 纳米压印光刻技术制造和表征 500 nm 以下通道有机场效应晶体管
DOI：
10.1016/j.mee.2012.04.004
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发表时间：
2012
影响因子：
2.3
通讯作者：
W.-J. Fischer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
L. Teng;R. Kirchner;M. Plötner;A. Türke;A. Jahn;F. Hagemann;W.-J. Fischer
使用不透明模具和不透明基材的紫外纳米压印
影响因子：
2.3
作者：
R. Kirchner;A. Finn;Li;M. Ploetner;A. Jahn;L. Nueske;W. Fischer
通讯作者：
W. Fischer