Deposition of Thin Si, Ge, and SiGe Films by Ballistic Hot Electron Reduction
Deposition of Thin Si, Ge, and SiGe Films by Ballistic Hot Electron Reduction
复制标题
通过弹道热电子还原沉积 Si、Ge 和 SiGe 薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Shirakashi and N. Koshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yagi;R. Suda;A. Kojima;R. Mentek;N. Mori;J. Shirakashi and N. Koshida
