Theoretical Study on Plasma Etching Processes of SiO_2 by Fluorocarbon Radicals : Tight-binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Approach
Theoretical Study on Plasma Etching Processes of SiO_2 by Fluorocarbon Radicals : Tight-binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Approach
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氟碳自由基等离子体刻蚀SiO_2过程的理论研究:紧束缚量子化学分子动力学方法
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroshi Ito;Takuya Kuwahara;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;Seiji Samukawa;Momoji Kubo
