T.Shirafuji: "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Fluorinated Amorphous Carbon Films on the Surface with Reverse Tapered Microstructures"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 4504-4509 (2003)
T.Shirafuji: "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Fluorinated Amorphous Carbon Films on the Surface with Reverse Tapered Microstructures"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 4504-4509 (2003)
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T.Shirafuji：“具有倒锥形微结构的氟化非晶碳膜的等离子增强化学气相沉积”Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 4504-4509 (2003)
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