M.Yasukawa: "Interface Characteristics of aーSi:H Films Prepared by VHF Plasma CVD" 第8回プラズマプロセシング研究会 プロシ-ディングス. 277---280 (1991)
M.Yasukawa: "Interface Characteristics of aーSi:H Films Prepared by VHF Plasma CVD" 第8回プラズマプロセシング研究会 プロシ-ディングス. 277---280 (1991)
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M. Yasukawa：“VHF 等离子体 CVD 制备的 a-Si:H 薄膜的界面特性”第 8 届等离子体处理研究组论文集 277---280 (1991)。
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