Si(111)基板上へのGe添加β-FeSi2エピタキシャル膜の作製
Si(111)基板上へのGe添加β-FeSi2エピタキシャル膜の作製
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Si(111)衬底上Ge掺杂β-FeSi2外延薄膜的制备
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
寺井慶和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野田慶一;寺井慶和
