Investigation of Dipole Formation at AlOxNy/SiO2 interface by MD simulation
Investigation of Dipole Formation at AlOxNy/SiO2 interface by MD simulation
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通过 MD 模拟研究 AlOxNy/SiO2 界面偶极子的形成
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takanobu Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Okuto Takahashi;Nobuhiro Nakagawa;Motohiro Tomita;Takanobu Watanabe
