"Study of Strong Fermi Level Pinning at Metal/Germanium Interface Based on the Impact of Ultra-thin Insulator Insertion"
"Study of Strong Fermi Level Pinning at Metal/Germanium Interface Based on the Impact of Ultra-thin Insulator Insertion"
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“基于超薄绝缘体插入影响的金属/锗界面强费米能级钉扎研究”
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and A. Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Nishimura;T. Nakamura;and A. Toriumi
