S.Inoue, H.Uchida, Y.Tokunaga, K.Takeshita, K.Kotrazawa: "Preparation of Compositionally Gradient Al-A1N Films by rf Reactive Sputtering" J.Jpn.Inst.Metals. 58[2]. pp.194-200 (1994)
S.Inoue, H.Uchida, Y.Tokunaga, K.Takeshita, K.Kotrazawa: "Preparation of Compositionally Gradient Al-A1N Films by rf Reactive Sputtering" J.Jpn.Inst.Metals. 58[2]. pp.194-200 (1994)
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S.Inoue、H.Uchida、Y.Tokunaga、K.Takeshita、K.Kotrazawa：“通过射频反应溅射制备成分梯度 Al-A1N 薄膜”J.Jpn.Inst.Metals。
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