Growth and characterization of transition metal sulfide thin layers using dithiocarbamate complexes by single-source MOCVD technique
Growth and characterization of transition metal sulfide thin layers using dithiocarbamate complexes by single-source MOCVD technique
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通过单源 MOCVD 技术使用二硫代氨基甲酸盐配合物生长和表征过渡金属硫化物薄层
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Norio
中科院分区：
文献类型：
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作者：
NOMURA;Ryoki;NAKAI;Norio
