Formation of Si Nano Hole Arrays Using a Self-assembled Nanolithography Mask and Cu Fill of the Array
Formation of Si Nano Hole Arrays Using a Self-assembled Nanolithography Mask and Cu Fill of the Array
复制标题
使用自组装纳米光刻掩模和阵列的铜填充形成硅纳米孔阵列
DOI：
10.4139/sfj.64.659
复制
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
松村道雄
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
近藤英一;玉井 架;松村道雄
