新規アモルファス酸化物半導体Cd-M-O薄膜(M = Ga, Si)の作製とバンドギャップ制御
新規アモルファス酸化物半導体Cd-M-O薄膜(M = Ga, Si)の作製とバンドギャップ制御
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新型非晶氧化物半导体Cd-M-O薄膜（M=Ga、Si）的制备与带隙控制
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期刊：
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通讯作者：
柳 博，佐藤 千友紀，高木 暢人，鈴木 一誓，小俣 孝久，神谷 利夫，細野 秀雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
堀内隆弘,和田智志,柳博;井口雄喜,柳博;堀内 隆弘，和田 智志，柳 博;柳 博，佐藤 千友紀，高木 暢人，鈴木 一誓，小俣 孝久，神谷 利夫，細野 秀雄
