Y.Watanabe, M.Shiratani, T.Fukuzawa, H.Kawasaki, Y.Ueda, S.Singh and H.Ohkura: "Contribution of short lifetime radicals to growth of particles in SiH_4 HF discharges and effects of particles on deposited films" J.Vac. Sci. & Technol. A. Vol.14. 995-1001 (
Y.Watanabe, M.Shiratani, T.Fukuzawa, H.Kawasaki, Y.Ueda, S.Singh and H.Ohkura: "Contribution of short lifetime radicals to growth of particles in SiH_4 HF discharges and effects of particles on deposited films" J.Vac. Sci. & Technol. A. Vol.14. 995-1001 (
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Y.Watanabe、M.Shiratani、T.Fukuzawa、H.Kawasaki、Y.Ueda、S.Singh 和 H.Ohkura：“短寿命自由基对 SiH_4 HF 放电中粒子生长的贡献以及粒子对沉积薄膜的影响”
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