Estimation of resist sensitivity for extreme ultraviolet lithography using an electron beam
Estimation of resist sensitivity for extreme ultraviolet lithography using an electron beam
复制标题
使用电子束估计极紫外光刻的抗蚀剂灵敏度
DOI：
10.1063/1.4961378
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
1.6
通讯作者：
and S. Tagawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. G. Oyama;A. Oshima;and S. Tagawa
