Y. Kobayashi, Y. Chinzei, H. Asanome, J. Kikuchi, S. Shingubara and Y. Horiike: "High Rate Bias Sputtering Filling of SiO_2 Film Employing Both Continuous Wave and Time-Modulated Inductive Coupled Plasmas" Extended Abstr. of the 1995 Intern. Conf. on Sol.
Y. Kobayashi, Y. Chinzei, H. Asanome, J. Kikuchi, S. Shingubara and Y. Horiike: "High Rate Bias Sputtering Filling of SiO_2 Film Employing Both Continuous Wave and Time-Modulated Inductive Coupled Plasmas" Extended Abstr. of the 1995 Intern. Conf. on Sol.
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Y. Kobayashi、Y. Chinzei、H. Asanome、J. Kikuchi、S. Shingubara 和 Y. Horiike：“采用连续波和时间调制感应耦合等离子体的 SiO_2 薄膜的高速率偏置溅射填充”扩展摘要。
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