歪緩和バリア層に埋め込んだEr添加InAs量子ドットの電気特性
歪緩和バリア層に埋め込んだEr添加InAs量子ドットの電気特性
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嵌入应变弛豫势垒层的掺铒 InAs 量子点的电学特性
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上山日向;他
