次世代リソグラフィ用 EUV 光源におけるレーザー照射によるターゲット物質の分散、粒子生成過程のモデリング
次世代リソグラフィ用 EUV 光源におけるレーザー照射によるターゲット物質の分散、粒子生成過程のモデリング
复制标题
用于下一代光刻的 EUV 光源中激光照射的靶材料分散和粒子生成过程的建模
DOI：
--
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
佐々木明
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
佐々木 明;砂原 淳;西原 功修;西川 亘;佐々木 明;佐々木明;佐々木明;A. Sasaki;レーザー励起プラズマEUV光源ターゲット分散過程のモデル構築(2);佐々木明;佐々木明
