HIGH-RESOLUTION ELECTRON-BEAM INDUCED DEPOSITION

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DOI:
10.1116/1.584045
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发表时间:
1988-01-01
影响因子:
1.4
通讯作者:
BAUM, TH
BAUM, TH
中科院分区:
工程技术4区
文献类型:
--
作者:
KOOPS, HWP;WEIEL, R;BAUM, TH

文献摘要

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