A.Uedono,L.Wei,C.Dosho,H.Kondo,S.Tanigawa,J.Sugiura and M.Ogasawara: "Defect production in phosphorus ionーimplanted SiO_2(43nm)/Si studied by a variableーenergy positron beam" Jpn.J.Appl.Phys.30. 201-206 (1991)
A.Uedono,L.Wei,C.Dosho,H.Kondo,S.Tanigawa,J.Sugiura and M.Ogasawara: "Defect production in phosphorus ionーimplanted SiO_2(43nm)/Si studied by a variableーenergy positron beam" Jpn.J.Appl.Phys.30. 201-206 (1991)
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A.Uedono、L.Wei、C.Dosho、H.Kondo、S.Tanikawa、J.Sugiura 和 M.Ogasawara：“用可变能量正电子束研究磷离子注入 SiO_2(43nm)/Si 中的缺陷产生“ Jpn.J.Appl.Phys.30.201-206（1991）
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