Growth of epitaxial TiN films deposited on MgO(100) by reactive magnetron sputtering: The role of low-energy ion irradiation during deposition
Growth of epitaxial TiN films deposited on MgO(100) by reactive magnetron sputtering: The role of low-energy ion irradiation during deposition
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通过反应磁控溅射在 MgO(100) 上沉积外延 TiN 薄膜的生长：沉积过程中低能离子辐照的作用
DOI：
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发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Greene
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L. Hultman;S. Barnett;J. Sundgren;J. Greene
