Optical Reflectivity Studies of Damage in Ion Implanted Silicon
Optical Reflectivity Studies of Damage in Ion Implanted Silicon
复制标题
离子注入硅损伤的光学反射率研究
DOI：
10.1143/jjap.17.955
复制
发表时间：
1978
影响因子：
1.5
通讯作者：
T. Tokuyama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Miyao;T. Miyazaki;T. Tokuyama
